MEMS Product

MEMS Product

mems product Fab. Infrastructure

All class 1000 clean room. (Class 100 @ PHOTO bay)
제조 장비
얼라이너, 전해도금장비, 스퍼터, 연마기 등
분석 장비
FE-SEM, ICP, CVS, etc
측정 및 검사 장비
3D 비전, 알파 스텝, AOI 등
세라믹, 글라스, 실리콘 웨이퍼가 가능
4인치~12인치까지 가능

mems product MEMS Process

  • 박막

    스퍼터나 PECVD로 서브마이크론의 박막증착 가능

  • 사진

    i-라인 및 브로드 밴드 1X 얼라이너

    앞뒤 정렬

    4인치, 8인치, 12인치 공정

  • Electro Plating

    Ni, Ni alloy, Au, Cu, Sn, Rh용 EP 도금조

  • CMP

    세라믹 및 실리콘 웨이퍼의 연마 공정

  • 식각

    습식 식각 공정

    건식(ICP) 식각 공정

mems product MEMS 적용

MEMS 구조물
세라믹 기판
MEMS 소자

mems 기술

  • 시트타입 멀티 레이어 기술

    멀티 레이어 동시 생산

    멀티 레이어 배선을 사용한 채널 분기

    멀티 레이어 배선 분기를 활용한 고파라 프로브 카드 구현

    멀티 레이어 평탄도 개선

  • 인터커넥트 기술

    전도성 잉크를 이용한 인터커넥트 기술

    소결을 통한 금속회로 전기적 연결

  • MEMS 박막 기술

    소형 비아: 15um 이상

    C4 패드 피치 : 30um 이상

  • VPC 프로브 기술

    Low Contact Force : 1.45gf (@Force at OD 75um)

    High CCC : 1,500mA (@ISMI)

    Available Pitch : ≥ 50um

    Long life cycle : ≥ 1,000,000TD

    Pin Count : ≥30K

  • MEMS 프로브 설계 및 Fab 기술

    Ni 합금 도금 신기술을 이용해 신뢰도가 높은 성능 제공

    MEMS Vertical Structure

    Cu-Pillar Bump 및 BGA을 위한 다양한 프로브 솔루션

    High Aspect Ratio : 6.5:1

  • 스택 업 기술

    열 신뢰성 보증: 균열, 박리 없음(@TSCT, 리플로우, 플로팅)

    안정적인 전기적 특성 : ±10% 이내의 저항 변화(@Bare Board Test)


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